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Emitech / Quorum
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Contact: |
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Sputter Coater für die hochaufloesende Beschichtung mit Edelmetall oder oxidierenden Metallen
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Q150R |
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Schnelltauschkopfplatten für verschiedene Beschichtungsmaterialien mit |
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* automatisch arbeitendes Ventil für Prozessgasmenge (Einstellung über Prozessvakuum) |
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* vollautomatischer Beschichtungsablauf für reproduzierbare Schichten |
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* farbiger Touchscreen für Eingabe von Parametern, Speichern, Abrufen und verändern von Programmen, Anzeige von Prozessablauf und Prozessparametern |
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* erstellen, abspeichern und abrufen von Beschichtungsprogrammen |
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* einrichten und verwalten von Nutzerrechten |
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* großer Rezipient, Glasdurchmesser Ø 165 mm / h 125 mm, Implosionsschutz |
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* ausfahrbarer Galgen für Glasrezipient 214 mm h (hohes Glas ist Option) |
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große Auswahl an rotierenden Probentischen (8 – 20 UPM), Standard
Ø
50 mm, |
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* 2 Gasanschlüsse (1 x Ar Prozessgas, 1 x N2 Spülung/Belüftung) |
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* automatische Ventilsteuerung für Prozessgas |
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* integrierte digitale Zeitschaltuhr für reproduzierbare Schichtdicken |
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* Vacuum Shutdown, Rezipent kann bei Nichtgebrauch des Gerätes evakuiert bleiben (verkürzt zukünftige Zykluszeiten) |
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* Pirani Vakuummessröhre |
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* Ethernet Netzwerkanschluss für Fernzugriff oder Programmupdates |
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* Blindleistungskompensierung für geringeren Stromverbrauch |
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* incl. Vakuumschlauch, Prozessgasschlauch und Verbindungsmaterial |
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incl. etwas Verbrauchsmaterial (Abhängig von Konfiguration: Sputtertarget57 mm Ø x 0.1 mm dick , Kohlefaden, Kohlestab |
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Maße:
585 mm b x 470 mm t x 410 mm h, mit geöffneter Kopfplatte Gewicht: 33 kg |
Die
Beschichtungsanlage gibt es in 3 Varianten:
Q150R S
Sputter Coater für Edelmetalle *1
Q150R E
Aufdampfanlage für Kohlenstoff (Kohlestab oder Kohlefaden) *1
Q150R ES
Kombination Sputter Coater und Kohlebeschichtung
*1 Gerät lässt sich nachträglich
zur Aufdampfanlage / Sputter Coater aufrüsten, muss dafür
aber zum Service.
Q150R S - Sputter Coater mit Option GlimmentladungGrundkonfiguration |
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* Aufnahme für Scheibentargets, Ø 54 – 57 mm |
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* Beschichtung mit Edelmetallen (Menüauswahl) |
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* Sputterstrom max. 80 mA ! |
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vorwählbare Sputterzeit, 5 Sekunden bis 60 Minuten, ohne Vakuumbruch |
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* Pirani Vakuummessröhre, Messbereich bis max. 5 x 10-3 mbar |
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* Vakuumfenster für Sputterprozess 5 x 10-1 bis 3 x 10-2 mbar |
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* rotierender Probentisch (8 – 20 UPM), Standard Ø 50 mm (10067) |
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incl.
Vakuumschlauch, Verbindungsmaterial, Goldtarget
Ø
57 x d 0.1 mm |
| Für den Betrieb
benötigen Sie eine Flasche Argon und einen 2-stufigen Druckminderer mit 4 mm Schlauchtülle. Empfohlene Reinheit: Argon 4.8/5.0 Optional: N2-Flaschengas für Belüftung |
| Q150R E - Aufdampfanlage für Kohlenstoff |
| * Schnelltauschkopfplatte mit Kohlefadenhalterung |
| * „ripple free“ Stromversorgung (Gleichstrom) |
| * Puls- / Intervallverdampfung 0.2 – 3 s, einstellbare Pause 10 – 30 s |
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Strompulse einstellbar, max. 60 A für Kohlefaden max. 90 A für Kohlestab mit Spitze Ø 1.4 mm |
| * bis zu 5 Verdampfungszyklen ohne Vakuumbruch |
| * variable Ausgaskontrolle der Verdampfungsquelle |
| * automatische einschwenkende Blende beim Ausgasen der Bedampfungsquelle |
| * sanfte Belüftung, um Probenverwirbelung zu verhindern |
| * Pirani Vakuummessröhre, Messbereich bis max. 1 x 10-3 mbar |
| *
rotierender Probentisch (8 – 20 UPM), Standard
Ø
50 mm, höhenverstellbar, 38 – 79 mm Abstand Target/Probentisch, nicht kippbar, „drop in“ für schnellen Wechsel ohne Werkzeug, Aufnahme für 6 Probenstubs. |
| incl. 1 m Kohlefaden, Vakuumschlauch, Verbindungsmaterial |
Zubehör |
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Q150R
ES - Kombination
Sputter Coater & Kohlebeschichter mit Option Glimmentladung |
| * Gerät für Sputter- oder Kohleschichten |
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* Die
Kopfplatten können für verschiedene Aufgaben in Sekunden getauscht werden. Die intelligente Systemlogik erkennt automatisch die entsprechende Kopfplatte und stellt auf das entsprechende Auswahlmenü im Monitor um. |
| * Spezifikationen wie Sputter Coater und Kohlebeschichter |
| Für den Betrieb
benötigen Sie eine Flasche Argon und einen 2-stufigen Druckminderer mit 4 mm Schlauchtülle. Empfohlene Reinheit: Argon 4.8/5.0 Optional: N2-Flaschengas für Belüftung |
| Zubehör für Q150R |
| 10726 Zusätzliche Kopfplatte für Sputtertarget (nur für Q150R S/ES!) |
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10033
Kopfplatte für Kohlestab Ø
3.05 mm incl. S6851 Handspitzer (nur für Q150R E/ES!) |
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10262
Kopfplatte für Glimmentladung (nur für
Q150R S/ES!) 0-80 mA, umschaltbar von DC- und DC+, für beglimmen/hydrophilisieren von Kohlenstofffilmen |
| 10357 Probentisch bis 90° kippbar, Ø 50 mm |
| 10358 Probentisch mit Aufnahme für 2 Objektträger 75 mm l x 25 mm b |
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10360
RotaCota planetarische Probenbühne mit variabel einstellbarem Kippwinkel, Ø 50 mm |
| 10458 Probentisch für 4“ Wafer incl. Excentergetriebe für großflächige Beschichtung |
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10454
Schichtdickenmonitor incl. Oszillator, Kristallhalter und Schwingquarz (3
Stück) Achtung! Gerät kann Kohlebeschichtung nicht steuern sondern nur Schichtdicke nach Prozess anzeigen! |
| 10068 Ersatzglas mit 2 L-Dichtungen |
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10429
Extra hoher Glasrezipient (214 mm) Empfohlen für optimalen Abstand Verdampfungsquelle / Probenoberfläche. |
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10731
Pumpstutzen für Vakuumschlauchanschluss, Winkel 90°, drehbar, falls Abstellfläche nicht min. 55 cm tief ist. |
| S8651 manueller Kohlestabspitzer Ø 3.05 mm |
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Gängige
Targetmaterialien für Q150R S/ES: Gold Gold/Palladium Platin Platin/Palladium Palladium Silber Kupfer |
Aufdampfanlage/Kohlebeschichtung Gefriertrockner
Glow
Discharge
Kritisch-Punkt-Trockner
Kryopräparationsanlage Kühltisch
REM Plasmareiniger
Sputter Coater
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(Bild) 
