Q150T
* Grundgerät erlaubt das Aufbringen von hochauflösenden Schichten

* Schnelltauschkopfplatten für verschiedene Beschichtungsmaterialien mit
Selbsterkennung und automatischer Programmumstellung
Möglich sind: Sputtertarget, Kohlefaden, Kohlestab 3.05 mm, Kohlestab 6.1 mm,
                     Metallverdampfung

* automatisch arbeitendes Ventil für Prozessgasmenge (Einstellung über Prozessvakuum)

* vollautomatischer Beschichtungsablauf für reproduzierbare Schichten

* farbiger Touchscreen für Eingabe von Parametern, Speichern, Abrufen und verändern von Programmen, Anzeige von Prozessablauf und Prozessparametern

* erstellen, abspeichern und abrufen von Beschichtungsprogrammen

* einrichten und verwalten von Nutzerrechten 

* großer Rezipient, Glasdurchmesser Æ 165 mm / h 125 mm, Implosionsschutz

* ausfahrbarer Galgen für Glasrezipient 214 mm h  (hohes Glas ist Option)

* große Auswahl an rotierenden Probentischen (8 – 20 UPM), Standard Æ 50 mm, 
„drop in“ für schnellen Wechsel ohne Werkzeug

* 2 Gasanschlüsse (1 x Ar Prozessgas, 1 x N₂ Belüftung)

* automatische Ventilsteuerung für Prozessgas

* integrierte digitale Zeitschaltuhr für reproduzierbare Schichtdicken

* Vacuum Shutdown, Rezipent kann bei Nichtgebrauch des Gerätes evakuiert bleiben (verkürzt zukünftige Zykluszeiten)

* Pirani Vakuummessröhre 
(”Full Range Gauge” Messröhre bei E & ES Standard)

* integrierte Turbomolekularpumpe, 70 l, luftgekühlt, max. 5 x 10^-5 mbar

* Membranvorpumpe für öl-freies Vakuum, max. 4 mbar, 2.2 m³/h

* Ethernet Netzwerkanschluss für Fernzugriff oder Programmupdates

* Blindleistungskompensierung für geringeren Stromverbrauch

* incl. Vakuumschlauch, Prozessgasschlauch und Verbindungsmaterial

Maße: 585 mm b x 470 mm t x 410 mm h, mit geöffneter Kopfplatte
  650 mm h, mit extra hohem Glas ca. 497 mm h

Gewicht: 33 kg

Q150T S - Sputter Coater mit Turbomolekularpumpe für die Hochauflösung 

Grundkonfiguration 
* hochauflösender Magnetronkopf mit Scheibentarget für „kalte“ Beschichtung (10034)

* Aufnahme für Scheibentargets, Æ 54 – 57 mm

* Beschichtung mit Edelmetallen oder oxidierenden Metallen (Menüauswahl)

* Sputterstrom max. 150 mA

* Reinigungsstrom zum Entfernen der nichtleitenden Oxidschicht,
std. 150 mA, max. 200 mA

* automatische einschwenkende Blende beim sputtern von oxidierenden Materialien

* vorwählbare Sputterzeit, 5 Sekunden bis 10 Minuten, ohne Vakuumbruch
Wenn mit hohem Sputterstrom gearbeitet wird legt das Gerät Zwangspausen ein.

* Pirani Vakuummessröhre, Messbereich bis max. 5 x 10^-3 mbar
 (”Full Range Gauge” Messröhre ist Option)

* Vakuumfenster für Sputterprozess 5 x 10^-1 bis 5 x 10^-3 mbar

* rotierender Probentisch (8 – 20 UPM), Standard Æ 50 mm (10067)

incl. Vakuumschlauch, Verbindungsmaterial, Chromtarget Æ 57 x d 0.3 mm 

Targetmaterialien   

Zubehör für Q150T S

  10357        Probentisch bis 90° kippbar, Æ 50 mm 
10358        Probentisch mit Aufnahme für 2 Objektträger 75 mm l x 25 mm b 10360        RotaCota planetarische Probenbühne mit variable einstellbarem
                 Kippwinkel 0° – 30 °, Æ 50 mm 
10458        Probenbühne für 4“ Wafer incl. Excentergetriebe für großflächige
                 Beschichtung 
10454        Schichtdickenmonitor incl. Oszillator, Kristallhalter und
                 Schwingquarz (3) 
10428        Vakuummessröhre „full range“ für Anzeige im
                 Hochvakuumbereich 
10429        Extra hoher Glasrezipient (214 mm) zum gleichmäßigen
                 Beschichten großer Flächen 
10422        Pumpstutzen für Vakuumschlauchanschluß, Winkel 90 °, drehbar,
                 falls Abstellfläche nicht min. 55 cm tief ist 
10447        Ersatzteilkit für ca. 2 Jahre ^*2, incl. Cr-Target, 
                 Glasrezipient 125 mm h, 2 x L-Dichtung, O-Ringe, 
                 3 Quarzkristalle (C5460)

                 ^*2 abhängig davon, wie intensiv das Gerät genutzt wird

Q150T E - Aufdampfanlage mit Turbomolekularpumpe für die
                  Hochauflösung 

Zubehör für Q150T E

10453       Kopfplatte für Sputtertarget
10455       Kopfplatte für Kohlefaden
10456       Kopfplatte für Kohlestab  Æ 6.15 mm
10457       Kopfplatte für Metallverdampfung,  incl. Halterung für
                Verdampfung von unten nach oben, 10 Wolframkörbchen
                (A0754) und einem Molybdänschiffchen
S8650       manueller Kohlestabspitzer 6.15 mm (4 Klingen)
SC7605    Elektrische Kohlestabfräse, 6.15 mm für stufige Spitzen

10357       Probentisch bis 90° kippbar, Æ 50 mm
10358       Probentisch mit Aufnahme für 2 Objektträger 75 mm l x 25 mm b
10360       RotaCota planetarische Probenbühne mit variable einstellbarem
                Kippwinkel, Æ 50 mm
10458       Probenbühne für 4“ Wafer incl. Excentergetriebe für großflächige
                Beschichtung
10454       Schichtdickenmonitor incl. Oszillator, Kristallhalter und
                Schwingquarz (3) 

10429       Extra hoher Glasrezipient (214 mm)
                Empfohlen für optimalen Abstand Verdampfungsquelle /
                Probenoberfläche.
10422       Pumpstutzen für Vakuumschlauchanschluss, Winkel 90 °,
                drehbar, falls Abstellfläche nicht min. 55 cm tief ist.
10448       Ersatzteilkit für ca. 2 Jahre ^*2, Kohlestäbe 3.05 mm (C5422),
                Kohlefaden fein (5421), Glasrezipient 125 mm h, 2 x L-Dichtung,
                O-Ringe, 3 Quarzkristalle (C5460)

                ^*2 abhängig davon, wie intensiv das Gerät genutzt wird

Verbrauchsmaterialien für Q150T E

A0819                 Kohleschnur spektralrein, 1 m
A0819-5              Kohleschnur spektralrein, 5 m
C5421                 Kohleschnur, 1 m, 1.5 g/m
C5421-10            Kohleschnur, 10 m, 1.5 g/m
C5421-100          Kohleschnur, 100 m, 1.5 g/m
E428AECO         Kohleschnur, 5 m, 0.65 g/m
C5422                 Kohlestäbe, Æ 3.05 mm, 300 mm lang, ungespitzt, 10 Stück
A0834A              Kohlestäbe, Æ 3.05 mm, 50 mm lang, gespitzt, 10 Stück
A0830A              Spektralreine Kohlestäbe, ungespitzt, Æ 6.2 mm, 100 mm lang, 10 Stück
A0832A              Spektralreine Kohlestäbe, stufige Spitzen, Æ 6.2 mm, 50 mm lang, 
                          10 Stück
C5464                10 Quarzkristalle (Ersatz)

Q150T ES  Sputter Coater & Aufdampfanlage für Kohlestab Æ 3.05 mm
                   Gerät für hochauflösende Sputter- oder Aufdampfschichten

Grundkonfiguration   
Die Kopfplatten können für verschiedene Aufgaben in Sekunden getauscht werden. Die intelligente Systemlogik erkennt automatisch die entsprechende Kopfplatte und stellt auf das entsprechende Auswahlmenü im Monitor um.  

 Spezifikationen Sputter Coater:
* hochauflösender Magnetronkopf mit Scheibentarget für „kalte“ Beschichtung (10034)
* Aufnahme für Scheibentargets, Æ 54 – 57 mm
* Beschichtung mit Edelmetallen oder oxidierenden Metallen (Menüauswahl)
* Sputterstrom max. 150 mA
* Sputterstrom zum Entfernen der nichtleitenden Oxidschicht,
   std. 150 mA, max. 200 mA
* automatische einschwenkende Blende beim sputtern von oxidierenden Materialien
* vorwählbare Sputterzeit, 5 Sekunden bis 10 Minuten, ohne Vakuumbruch
   Wenn mit hohem Sputterstrom gearbeitet wird legt das Gerät Zwangspausen ein.
* Vakuumfenster für Sputterprozess 5 x 10^-1 bis 5 x 10^-3 mbar

 Spezifikationen Aufdampfanlage für Kohlestab Æ 3.05 mm:
* Kopfplatte mit Kohlestabhalterung Æ 3.05 mm (10033)
* „anti stick“ Kohlestabhalterung
* „ripple free“ Stromversorgung (Gleichstrom) 
* Puls- / Intervallverdampfung 0.2 – 3 s, einstellbare Pause 10 – 30 s
* Strompulse einstellbar,
      max. 60 A  für Kohlefaden
      max. 95 A für Kohlestab
      max. 120 A für Metallverdampfung
* bis zu 5 Verdampfungszyklen ohne Vakuumbruch
* variable Ausgaskontrolle der Verdampfungsquelle
* automatische einschwenkende Blende zum Ausgasen der Bedampfungsquelle
* sanfte Belüftung, um Probenverwirbelung zu verhindern
* Vakuummessröhre „full range“ für Anzeige im Hochvakuumbereich (10428)
* rotierender Probentisch (8 – 20 UPM), Standard Æ 50 mm (10067)

   incl. Vakuumschlauch, Verbindungsmaterial, Chromtarget Æ 57 x d 0.3 mm,
10 Kohlestäbe  Æ 3.05 mm x 300 mm l (C5422), manueller Kohlestabspitzer 3.05 mm 
(4 Klingen)

Zubehör für Q150T ES

  10453     Zusätzliche Kopfplatte für schnellen Targetwechsel
10455     Kopfplatte für Kohlefaden
10456     Kopfplatte für Kohlestab  Æ 6.15 mm
SC7605  Elektrische Kohlestabfräse, 6.15 mm für stufige Spitzen
S8650     manueller Kohlestabspitzer 6.15 mm (4 Klingen)
10457     Kopfplatte für Metallverdampfung,  incl. Halterung für Verdampfung von
              unten nach oben, 10 Wolframkörbchen (A0754) und einem Molybdänschiffchen
10357     Probentisch bis 90° kippbar, Æ 50 mm
10358     Probentisch mit Aufnahme für 2 Objektträger 75 mm l x 25 mm b
10360     RotaCota planetarische Probenbühne mit variable einstellbarem Kippwinkel,
              Æ 50 mm
10458     Probenbühne für 4“ Wafer incl. Excentergetriebe für großflächige Beschichtung
10454     Schichtdickenmonitor incl. Oszillator, Kristallhalter und Schwingquarz (3)

   10429     Extra hoher Glasrezipient (214 mm)
              Empfohlen für optimalen Abstand Verdampfungsquelle / Probenoberfläche.
10422     Pumpstutzen für Vakuumschlauchanschluß, Winkel 90 °, drehbar, 
              falls Abstellfläche nicht min. 55 cm tief ist.
10449     Ersatzteilkit für ca. 2 Jahre ^*2, Cr-Target 0.3 mm dick (TK8845), 
              Kohlestäbe 3.05 mm (C5422), Kohlefaden fein (5421), Glasrezipient 125 mm h, 
              2 x L-Dichtung, O-Ringe, 3 Quarzkristalle (C5460)

             ^*2 abhängig davon, wie intensiv das Gerät genutzt wird