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Aufdampfanlagen bieten für
die Beschichtung unter Hochvakuum für REM und TEM 3 Möglichkeiten - mit Kohlestab,
Kohlefaden oder Metall. Für die energiedispersive Röntgenanalyse hat sich
die Beschichtung mit Kohlefaden bewährt. Der Vorgang ist sehr gut
reproduzierbar und die im Faden enthaltene Kohlenstoffmenge ist in aller Regel für
Proben mit nicht zu hoher Topographie ausreichend. Der Umgang mit dem Faden
problemlos wenn man Luft und Feuchtigkeit bei der Lagerung ausschließt.
Beim Kohlestab hat man den Vorteil einer besseren
Kohlenstoffqualität, die aber nur im analytischen Bereich bei der Spurensuche
von Schwefel oder anderen Kontaminanten zum Tragen kommt. Beschichtungen mit
Kohlestab können von Anwender zu Anwender schwanken da solange
Kohlenstoff verdampft wird, wie der Verdampfungsknopf gerückt wird - also sehr
subjektiv. Auf eine sorgsam hergestellte Kohlestabspitze sollte stets geachtet
werden. Insgesamt sind die Beschichtungen mit Kohlestab besser für die Hochauflösung.
Metallverdampfungen
gelingen in Wolframkörbchen unter
Hochvakuum.
Q150T wird ab
sofort die
Geräte K575X Sputter Coater (nicht K575XD)
und K950X Aufdampfanlage ablösen. |
Ab 2010 bietet Quorum Technologies ein neues
Gerät für die Hochauflösung an.
Es handelt sich dabei um die Gerätebezeichnung Q150T.
Das Gerät verfügt über eine Turbomolekularpumpe mit Membranvorpumpe und
ist in 3 Ausbaustufen erhältlich:
Q150T S
Sputter Coater für die Hochauflösung mit großer Auswahl an Targetmaterialien
Q150T E
Aufdampfanlage für Kohlestab, Kohlefaden und Metall
Q150T ES
Kombination Aufdampfanlage und Sputter Coater
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EMITECH Tisch- Aufdampfanlagen
K950X Aufdampfanlage für Kohlestab (Grundausstattung) oder als Option
Kohlefaden oder Metall
K975X Aufdampfanlage für Kohlestab und 2 Metallverdampfungsquellen,
Probendurchmesser bis 200
mm
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Ý zum
Anfang
EMITECH Aufdampfanlagen
Schnelltauschkopf |
- K950X Kohle-/Metallbeschichtung unter Hochvakuum
- großer Rezipient, 165 mm Æ
x 125 mm h
- Kohlestab Æ
3.05 mm ist Grundausstattung, Kopfplatte Kohlefaden oder
Metallverdampfung Option
- rotierende Probenbühne mit 0 - 90° Neigung, Abstand Probenbühne
Kohlenstoffquelle 110 - 130 mm
- Hochvakuum durch Turbomolekularpumpe, 60 l/sec, automatische
Pumpsequenz
- Parametereingabe über Menüs, Anzeige auf LCD-Monitor
- variable Ausgaskontrolle
Option: K150X Schichtdickenmonitor, K350X Sputter-Zusatz
Gewicht 28 kg, 450 mm b x 350 mm t x 750 mm h
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Ý zum
Anfang
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- K975X Kohle-/Metallbeschichtung unter Hochvakuum,
mehrere Verdampfungsquellen
- Probenbeschickung über Schublade (6") oder von oben
(8")
- großer Rezipient, 250 mm Æ
x 300 mm h
- Kohlestabhalterung in Höhe und Winke (0-20°) verstellbar, 6.15 mm
Kohlestäbe
- Kohlenstoff und Kohlenstoff/Platin Verdampfung
- Probenbühne mit einstellbarem Neigungswinkel 0-45°
Option: rotierende Probenbühne mit externer
Neigungswinkelverstellung
0-45° und einstellbarer Rotationsgeschwindigkeit 15 - 40 U/min
(EK4205)
- Hochvakuum durch Turbomolekularpumpe, 100 l/sec, automatische
Pumpsequenz
- Vakuumanzeige bis 10-7 mbar
- 4 Verdampfungseinstellungen - 5V / 15V / 25V @ 15A & 7v @ 100A
- Schichtdickenmonitor für Kohle- und Metallbeschichtung
- Mikrokontroller mit LCD-Anzeige für Eingabe von Prozessparametern
oder Prozessstatus
Option: Sputter Coater-Zusatz mit Au-Target, Option von Au/Pd, Pt, Cr,
Ni, Cu, Ag, etc., Æ
57 mm
Gewicht 65 kg, 450 mm b x 500 mm t x 700 mm h
- K975S
- gleiche technische Daten wie K975X aber mit spezieller Schublade
für
8" Wafer
Ý zum
Anfang
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Aufdampfanlage Carbon Coater
Gefriertrockner Glow Discharge
Kritisch-Punkt-Trockner
Kryopräparationsanlage Kühltisch
REM Plasmareiniger Schichtdickenmonitor
Sputter Coater
Ý zum
Anfang
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(Bild)
