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Carbon Coater, Kohlebeschichtung {REM}
Carbon
Coater für die Beschichtung in der EDX- und WDX-Analyse oder für
Proben mit hoher Topographie (z.B. biologische Proben). Da die Kohlenstoffkontamination
des Rezipienten relativ hoch ist, empfiehlt es sich immer, für die
Metallbeschichtung und Kohlenstoffbeschichtung getrennte Geräte einzusetzen.
Das gleiche Gerät kann mit verschiedenen Kopfplatten sowohl für
die Kohlefaden oder Kohlestabbeschichtung eingesetzt werden - die Stromversorgung
ist identisch.
EMITECH Kohlebeschichter
K400X Kohlebeschichtung Kohlefaden, manuell
K450X Kohlebeschichtung Kohlefaden, Automatik & rotierende
Probenbühne
K950X Kohlefaden- / Kohlestab- oder Metallbeschichtung unter Hochvakuum
K975X / K975S Kohlefaden- / Kohlestab- oder Metallbeschichtung unter Hochvakuum
für Wafer bis 8"
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K450X Carbon Coater
- vollautomatischer Prozessablauf incl. abpumpen, einschwenken
der
Blende während des Ausgasens, Ausgasen der Kohlenstoffquelle und
Verdampfung
- großer Rezipient, 165 mm Æ
x 125 mm h
- Kohlenstoffquelle Kohlefaden
- variable Ausgaskontrolle
- rotierende Probenbühne mit 0 - 10° Neigung
- Abstand Probenbühne Kohlenstoffquelle 55 - 75 mm
- geeignet für EDX/WDX-Analysen
Option: K150X Schichtdickenmonitor, K350X Sputter-Zusatz
Gewicht 18 kg, 450 mm b x 350 mm t x 175 mm h zzgl. Glashöhe
- K400X Carbon Coater
- Ausstattung wie K450X aber manuelle Bedienung und keine
rotierende
Probenbühne
Ý zum
Anfang
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K950X Kohle-/Metallbeschichtung unter Hochvakuum
- großer Rezipient, 165 mm Æ
x 125 mm h
- Kohlestab Æ
3.05 mm ist Grundausstattung, Kopfplatte Kohlefaden
oder
Metallverdampfung Option
- rotierende Probenbühne mit 0 - 90° Neigung, Abstand Probenbühne
Kohlenstoffquelle 110 - 130 mm
- Hochvakuum durch Turbomolekularpumpe, 60 l/sec, automatische
Pumpsequenz
- Parametereingabe über Menüs, Anzeige auf LCD-Monitor
- variable Ausgaskontrolle
Option: K150X Schichtdickenmonitor, K350X Sputter-Zusatz
Gewicht 28 kg, 450 mm b x 350 mm t x 750 mm h
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K975X Kohlebeschichter unter
Hochvakuum
- sehr großer Rezipient für z.B. Wafer Æ
250 mm
- Kohlestab Æ
6 mm
- Kohlenstoffquelle in Höhe und Neigung (bis 20°) justierbar
- Kopfplatte mit Scharnier zum leichten Reinigen
- Probentisch mit einstellbarem Neigungswinkel 0° - 45 °
- Turbomolekularpumpe 100 l/s
- Schublade für Probenwechsel
- Parametereingabe über Menüs, Anzeige auf LCD-Monitor
Option: rotierende Probenbühne, Kühlfalle flüssig-Stickstoff,
Sputter-Zusatz, Schichtdickenmonitor, Glow Discharge
Gewicht 65 kg, 450 mm b x 500 mm t x 600 mm h
K975S Kohlebeschichter unter Hochvakuum
- wie K975X aber mit spezieller Schublade für 8" Wafer
(speziell für F.I.B)
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Ý zum
Anfang
Aufdampfanlage
Carbon Coater Gefriertrockner
Glow Discharge
Kritisch-Punkt-Trockner
Kryopräparationsanlage Kühltisch
REM Plasmareiniger Schichtdickenmonitor
Sputter Coater
Ý zum
Anfang
www.sputtercoating.com
www.criticalpointdryer.com
www.electron-microscopy.com
www.sputtercoater.com
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(Bild)
