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Sputter Coater für die hochaufloesende Beschichtung mit Edelmetall oder oxidierenden Metallen



   Instrumente für die Probenpräparation 
   in der Elektronenmikroskopie



      Award_DistributorOfTheYear_2009.jpg (910689 Byte)
              
Auszeichnung:
       Wiederverkäufer des Jahres 2009

Quorum Technologies gibt 3 Jahre Garantie auf alle Geräte


Q300 ist die neuste und fortschrittlichste Generation von Sputter Coater mit großem Rezipienten auf dem Markt!

Die Bedienung und Programmierung ist sehr einfach.
Kleine informative Videos informieren Sie über Menüstruktur, Prozessinformation, Prozessablauf und Berechtigungen von Anwender
und Administrator am Beispiel von dem Gerät Q150.

Videos:
Bedienung Teil 1 9:45 min
Bedienung Teil 2  9 :00 min
Kohlebeschichtung  6:20 min
Schichtdickenmonitor   5:40 min
Target & Kopfplattenwechsel   6:40 min

Das Gerät ist in 3 Ausbaustufen erhältlich:
Q300RT Sputter Coater für Edelmetalle mit 3 Targets, Vorvakuum
- für Beschichtung von Proben mit max. 20 cm Durchmesser
 
Q300TT Sputter Coater für Edelmetalle und oxidierende Metalle mit 3 Targets, Hochvakuum für Beschichtung von Proben mit max. 20 cm Durchmesser
 
Q300TD Sputter Coater für Edelmetalle und oxidierende Metalle mit 2 Targets, Hochvakuum für sequentielle Beschichtung von Proben mit max. 15 cm Durchmesser

Video Einführung/Übersicht Q300TD hier
 

Sputter Coater für kleine Proben finden Sie hier.

 

Sputter Coater für feinkörnige Schichten für REM und Dünnschichttechnik.

Das Gehäuse aus einem Guss und sehr servicefreundlich.
Alle Versorgungsanschlüsse befinden sich auf der Rückseite.
 

Die Eingabe der Beschichtungsparameter, Anzeige des Beschichtungsablaufs und Fehlerausgabe erfolgen über einen Touchscreenbildschirm. Mehrere Anwender können ihre eigenen Rezepte mit allen Parametern abspeichern. Durch die Vergabe von Zugriffsrechten sind bestimmte Parameter vor Löschen und Veränderung durch Anwender geschützt. Als Administrator hat man Zugriff auf alle Einstellungen.
Touch Screen von Q300 Sputter Coater von Quorum Technologies / GaLa Instrumente GmbH    Programmauswahl Sputter Coater Q150T von Quorum Technologies / GaLa Instrumente GmbH Prozessparameter Tischrotation bei Sputter Coater Q150 von Quorum Technologiers & GaLa INstrumente GmbH Prozessparameter Gas bei Sputter Coater Q150/Q300 von Quorum Technologies & GaLa Instrumente GmbH Programm- oder Rezeptauswahl bei Q300 Sputter Coater von Quorum Technologies / GaLa Instrumente GmbH
Touchscreen Programmauswahl Programmparameter
Sputter, Tischrotation
Programmparameter
Gas, Target säubern
Prozessablauf


Verschiedene optionale Probentische erlauben eine effiziente und reproduzierbare Beschichtung der unterschiedlichsten Probengeometrien.

Q150T_Probentisch_standard.jpg (98672 Byte)
Standard
10067
Q150T_Probentisch gekippt.jpg (263919 Byte)
gekippt
10357
Q150T_RotaCota.jpg (117148 Byte)
planetarisch
10360
Q150T_Probentisch Objekttraeger.jpg (152727 Byte)
Objektträger
10358

4" Wafer
10787


Durch die Vorgabe des Vakuums für den Sputterprozess entfällt die Einstellung der Argonprozessgasmenge mit einem Nadelventil. Je nach eingestellter Gasmenge (Vakuum) wird der Sputterstrom automatisch auf die gewünschte Höhe (mA) nachgeregelt. Dadurch kann man bei hoher Probentopographie auch diffus und mit geringem Sputterstrom arbeiten.
Als Beschichtungsmaterialien stehen Metalle und Edelmetalle zu Verfügung.

 zum Anfang  


Allgemeine Spezifikationen (gilt für alle Gerätevarianten)

Q300

* Sputter Coater für hochauflösenden Schichten

 

* Magnetronköpfe für „kalte“ Beschichtung

 

* automatisch arbeitendes Ventil für Prozessgasmenge
(Einstellung über Prozessvakuum)

 

* vollautomatischer Beschichtungsablauf für reproduzierbare Schichten

 

* farbiger Touchscreen (TFT, 145 mm Diagonale) für Eingabe von Parametern, Speichern, Abrufen und Verändern von Programmen, Anzeige von Prozessablauf und Prozessparametern

 

* Einrichten und Verwalten von Nutzerrechten

 

* einstellbarer Sputterstrom unabhängig vom Vakuum, max. 80 mA/Magnetron

 

* vorwählbare Sputterzeit, 5 Sekunden bis 60 Minuten, ohne Vakuumbruch
Wenn mit hohem Sputterstrom gearbeitet wird legt das Gerät Zwangspausen ein (7 Minuten).

 

* sehr großer Rezipient, Glas 127 mm h x 283 mm Æ, Implosionsschutz

 

* ausfahrbarer Galgen für extra hohes Glas
(hohes Glas ist Aufpreis pflichtige Option)

 

* 2 Gasanschlüsse (1 x Ar Prozessgas, 1 x N2 Spülung/Belüftung)

 

* automatische Ventilsteuerung für Prozessgas/spülen/belüften

 

* integrierte digitale Zeitschaltuhr für reproduzierbare Beschichtungszeiten

 

* Pirani Vakuummessröhre, Anzeige max. 5 x 10-4 mbar, danach „High Vacuum“ (”Full Range Gauge” Penning Messröhre Option)

 

* Coat Log, speichert die letzten 100 Beschichtungsabläufe

 

* Ethernet Netzwerkanschluss für Fernzugriff oder Softwareupdates

 

* Blindleistungskompensierung für geringeren Stromverbrauch

 

* incl. Sputtertargets

 

* incl. Vakuumschlauch, Prozessgasschlauch und Verbindungsmaterial

 

 

Achtung!

Für den Betrieb benötigen Sie eine Flasche Argon und einen 2-stufigen Druckminderer mit 4 mm Schlauchtülle. Empfohlene Reinheit für Standardvergrößerungen 4.8, für Hochauflösung 5.0.

Optional: N2-Flaschengas für Spülung & Belüftung.
 

  Für den Betrieb benötigen Sie eine Flasche Argon und einen 2-stufigen Druckminderer
  mit 4 mm Schlauchtülle.   Empfohlene Reinheit: Argon 4.8/5.0
  Optional: N2-Flaschengas für Belüftung
 
 
Q300RT Sputter Coater für Edelmetalle mit 3 Targets, Vorvakuum
- für Beschichtung von Proben mit max. 20 cm Durchmesser
 
Q300TT Sputter Coater für Edelmetalle und oxidierende Metalle mit 3 Targets, Hochvakuum für Beschichtung von Proben mit max. 20 cm Durchmesser
 
Q300 TD Sputter Coater für Edelmetalle und oxidierende Metalle mit 2 Targets, Hochvakuum für sequentielle Beschichtung von Proben mit max. 15 cm Durchmesser

zum Anfang  


 

Q300RT

 

 

* Allgemeine Spezifikationen wie oben aufgeführt

 

* 3 Magnetronköpfe für gleichmäßige Beschichtung von großen Flächen,
Ø ca. 20 cm

 

* für kleine Proben Beschichtung mit nur einem Target möglich

 

* Beschichtung nur mit Gold, Gold-Palladium, Platin, Platin-Palladium und Silber möglich

 

* Rotierender Probentisch 8“, nicht kippbar, 30 – 80 UPM

 

* incl. 3 Goldtargets

 

* incl. Vakuumschlauch, Prozessgasschlauch und Verbindungsmaterial

 

Gewicht: 36,5 kg,
Maße: 585 mm b x 470 mm t x 410 mm h (mit Standardglas)

 

 

Vakuumpumpe

2-stufige Drehschieberpumpe, ca. 10 m3/h, max. 1 x 10-2 mbar,
incl. Installationsmaterial für Geräteanschluss 

 

Ölnebelfilter, regenerierbar
 

Targetmaterialien   Zubehör

zum Anfang  


 

Q300TT

 

 

* Allgemeine Spezifikationen wie oben aufgeführt

 

* 3 Magnetronköpfe für gleichmäßige Beschichtung von großen Flächen, Ø ca. 20 cm

 

* Beschichtung mit Edelmetallen und oxidierenden Metallen
(siehe Targetliste)

 

* Rotierender Probentisch 8“, nicht kippbar, 30 – 80 UPM

 

* Automatisch einschwenkende Blende bei Anwendung mit oxidierenden Materialien (elektrischer Nichtleiter)

 

* Integrierte Turbomolekularpumpe, 70 l/s, luftgekühlt,
max. 5 x 10-5 mbar

 

* incl. 3 Chromtargets

 

* incl. Vakuumschlauch, Prozessgasschlauch und Verbindungsmaterial

 

Gewicht: 36,5 kg,
Maße: 585 mm b x 470 mm t x 410 mm h (mit Standardglas)

 

 

Vorpumpe:

2-stufige Drehschieberpumpe, ca. 5 m3/h, max. 1 x 10-2 mbar,
incl. Installationsmaterial für Geräteanschluss 

 

Ölnebelfilter, regenerierbar

oder

 

 

Membranvorpumpe für öl-freies Vakuum, max. 4 mbar, 2.2 m3/h
 

Targetmaterialien   Zubehör

 

 

Q300TD

 

 

* Allgemeine Spezifikationen wie oben aufgeführt

 

* 2 Magnetronköpfe für sequentielle Beschichtung mit 2 verschiedenen Materialien ohne Vakuumbruch

 

* Beschichtung mit Edelmetallen und oxidierenden Metallen
(siehe Targetliste)

 

* Eine Beschichtung kann bis zu 5 Sputterprofile enthalten

 

* Automatisch einschwenkende Blende bei Anwendung mit oxidierenden Materialien (elektrischer Nichtleiter)

 

* Rotierender Probentisch 4“, nicht kippbar, 14 – 38 UPM

 

* Integrierte Turbomolekularpumpe, 70 l/s, luftgekühlt, max. 5 x 10-5 mbar

 

* incl. 1 Chromtarget & 1 Goldtarget

 

* incl. Vakuumschlauch, Prozessgasschlauch und Verbindungsmaterial

 

Gewicht: 36,5 kg,
Maße: 585 mm b x 470 mm t x 410 mm h (mit Standardglas)

 

 

Vorpumpe:

2-stufige Drehschieberpumpe, ca. 5 m3/h, max. 1 x 10-2 mbar,
incl. Installationsmaterial für Geräteanschluss 

 

Ölnebelfilter, regenerierbar

oder

 

 

Membranvorpumpe für öl-freies Vakuum, max. 4 mbar, 2.2 m3/h
 

Targetmaterialien   Zubehör


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Zubehör
 
 

10731

Nur für Q300RT
Pumpstutzen für Vakuumschlauchanschluss, Winkel 90° drehbar, falls Abstellfläche nicht min. 55 cm tief ist

10454

Nur für Q300RT / Nur für Q300TT
Schichtdickenmonitor für die Steuerung der Schichtdicke

11577

Nur für Q300RT / Nur für Q300TT
Innenverkleidung der Vakuumkammer zur Verminderung von Sputterschichten auf Glasrezipient

10422

Nur für Q300TT und Q300TD
Pumpstutzen für Vakuumschlauchanschluss, Winkel 90° drehbar, falls Abstellfläche nicht min. 55 cm tief ist

10428

Nur für Q300TT und Q300TD
Penning Vakuummessröhre „full range“ für Anzeige im Hochvakuumbereich

10779

Nur für Q300TD
2 Schichtdickenmonitore für die Steuerung der Schichtdicke von unterschiedlichen Materialien bei sequentieller Beschichtung

11576

Nur für Q300TD
Innenverkleidung der Vakuumkammer zur Verminderung von Sputterschichten auf Glasrezipient

10596

Extra hoher Glasrezipient (214 mm h x 283 mm Ø), empfohlen für größeren Abstand Sputterquelle / Probenoberfläche bei hohen Proben

10067

Rotierender Probentisch, Standard, Æ 50 mm, mit Aussparungen für 6 Standard Probenstubs

10357

Rotierender Probentisch bis 30° kippbar, Æ 50 mm,  mit Aussparungen für 6 Standard Probenstubs

10358

Rotierender Probentisch mit Aufnahme für 2 Glasobjektträger 75 mm x 25 mm

10360

RotaCota, planetarischer Probentisch mit variabel einstellbarem Kippwinkel, Æ 50 mm,  mit Aussparungen für 6 Standard Probenstubs

10787

Probentisch für Aufnahme von 4“ Wafer

10994

Probentisch für Aufnahme von 6“ Wafer, exzentrisch rotierende Probenbühne

11223

Abschließbarer Not-Aus Schalter


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Scheibentarget.JPG (191120 Byte) für Sputter Coater Q150T, K575X, K575XD, K675X, K675XD, SC7620 Gängige Targetmaterialien für Q300RT:
Gold
Gold/Palladium
Platin 
Platin/Palladium
Palladium
Silber
Kupfer
   
Scheibentarget.JPG (191120 Byte) für Sputter Coater Q150T, K575X, K575XD, K675X, K675XD, SC7620 Gängige Targetmaterialien für Q300TT / Q300TD:
Gold
Gold/Palladium
Platin 
Platin/Palladium
Palladium
Silber
Kupfer
-----------------------
Aluminium
Chrom
Cobalt
Eisen
Indiumzinnoxid (In2O3)0.9 · (SnO2)0.1
Iridium
Kupfer
Wolfram
Kohlenstoff
Magnesium
Molybdän
Nickel
Tantal
Titan
Zinn

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