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Sputter Coater für die hochaufloesende Beschichtung mit Edelmetall oder oxidierenden Metallen
Q300 ist die neuste und fortschrittlichste Generation
von Sputter Coater mit großem Rezipienten auf dem Markt! |
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Die Bedienung und Programmierung ist sehr einfach.
Kleine informative Videos informieren Sie über Menüstruktur, Prozessinformation, Prozessablauf und Berechtigungen von
Anwender
und Administrator am Beispiel von dem Gerät Q150. |
Videos:
Bedienung Teil 1 9:45 min
Bedienung Teil 2 9 :00 min
Kohlebeschichtung 6:20 min
Schichtdickenmonitor 5:40 min
Target & Kopfplattenwechsel 6:40 min |
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| Das Gerät ist in 3
Ausbaustufen erhältlich: |
| Q300RT |
Sputter Coater für Edelmetalle mit 3 Targets,
Vorvakuum
- für Beschichtung von Proben mit max. 20 cm
Durchmesser
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| Q300TT |
Sputter Coater für Edelmetalle und
oxidierende Metalle mit 3 Targets, Hochvakuum für Beschichtung von Proben
mit max. 20 cm Durchmesser
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| Q300TD |
Sputter Coater für Edelmetalle und
oxidierende Metalle mit 2 Targets, Hochvakuum für sequentielle Beschichtung
von Proben mit max. 15 cm Durchmesser
Video Einführung/Übersicht
Q300TD hier |
| Sputter
Coater für kleine Proben finden Sie
hier.
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Sputter Coater für
feinkörnige Schichten für REM und Dünnschichttechnik.
Das Gehäuse aus einem Guss und sehr servicefreundlich.
Alle Versorgungsanschlüsse befinden sich auf der Rückseite.
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Q300 |
* Sputter Coater für hochauflösenden
Schichten |
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* Magnetronköpfe für „kalte“ Beschichtung |
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* automatisch arbeitendes Ventil für Prozessgasmenge
(Einstellung über Prozessvakuum) |
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* vollautomatischer Beschichtungsablauf für
reproduzierbare Schichten |
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* farbiger Touchscreen (TFT, 145 mm Diagonale) für
Eingabe von Parametern, Speichern, Abrufen und Verändern von Programmen,
Anzeige von Prozessablauf und Prozessparametern |
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* Einrichten und Verwalten von Nutzerrechten |
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* einstellbarer Sputterstrom unabhängig vom Vakuum, max.
80 mA/Magnetron |
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* vorwählbare Sputterzeit, 5 Sekunden bis 60 Minuten,
ohne Vakuumbruch
Wenn mit hohem Sputterstrom gearbeitet wird legt das Gerät Zwangspausen
ein (7 Minuten). |
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* sehr großer Rezipient, Glas 127 mm h x 283 mm
Æ, Implosionsschutz |
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* ausfahrbarer Galgen für extra hohes Glas
(hohes Glas ist Aufpreis pflichtige Option) |
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* 2 Gasanschlüsse (1 x Ar Prozessgas, 1 x N2
Spülung/Belüftung) |
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* automatische Ventilsteuerung für
Prozessgas/spülen/belüften |
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* integrierte digitale Zeitschaltuhr für reproduzierbare
Beschichtungszeiten |
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* Pirani Vakuummessröhre, Anzeige max. 5 x 10-4
mbar, danach „High Vacuum“ (”Full Range Gauge” Penning Messröhre Option) |
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* Coat Log, speichert die letzten 100
Beschichtungsabläufe |
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* Ethernet Netzwerkanschluss für Fernzugriff oder
Softwareupdates |
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* Blindleistungskompensierung für geringeren
Stromverbrauch |
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* incl. Sputtertargets |
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* incl. Vakuumschlauch, Prozessgasschlauch und
Verbindungsmaterial |
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Achtung! |
Für den Betrieb benötigen Sie
eine Flasche Argon und einen 2-stufigen Druckminderer mit 4 mm
Schlauchtülle. Empfohlene Reinheit für Standardvergrößerungen 4.8, für
Hochauflösung 5.0.
Optional: N2-Flaschengas für
Spülung & Belüftung.
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Für den Betrieb
benötigen Sie eine Flasche Argon und einen 2-stufigen Druckminderer
mit 4 mm Schlauchtülle.
Empfohlene Reinheit: Argon 4.8/5.0
Optional: N2-Flaschengas für Belüftung |
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| Q300RT |
Sputter Coater für Edelmetalle mit 3 Targets,
Vorvakuum
- für Beschichtung von Proben mit max. 20 cm
Durchmesser
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| Q300TT |
Sputter Coater für Edelmetalle und
oxidierende Metalle mit 3 Targets, Hochvakuum für Beschichtung von Proben
mit max. 20 cm Durchmesser
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| Q300 TD |
Sputter Coater für Edelmetalle und
oxidierende Metalle mit 2 Targets, Hochvakuum für sequentielle Beschichtung
von Proben mit max. 15 cm Durchmesser |
zum Anfang
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Q300RT |
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*
Allgemeine Spezifikationen wie oben aufgeführt |
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* 3 Magnetronköpfe für gleichmäßige Beschichtung von
großen Flächen,
Ø ca. 20 cm |
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* für kleine Proben Beschichtung mit nur einem Target
möglich |
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* Beschichtung nur mit Gold,
Gold-Palladium, Platin, Platin-Palladium und Silber möglich |
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* Rotierender Probentisch 8“, nicht kippbar, 30 – 80 UPM |
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* incl. 3 Goldtargets |
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* incl. Vakuumschlauch, Prozessgasschlauch und
Verbindungsmaterial |
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Gewicht: 36,5 kg,
Maße: 585 mm b x 470 mm t x 410 mm h (mit Standardglas) |
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Vakuumpumpe |
2-stufige Drehschieberpumpe, ca. 10 m3/h, max.
1 x 10-2 mbar,
incl. Installationsmaterial für Geräteanschluss |
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Ölnebelfilter, regenerierbar
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zum Anfang
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Q300TT |
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*
Allgemeine Spezifikationen wie oben aufgeführt |
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* 3 Magnetronköpfe für gleichmäßige Beschichtung von
großen Flächen, Ø ca. 20 cm |
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* Beschichtung mit Edelmetallen und oxidierenden Metallen
(siehe Targetliste) |
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* Rotierender Probentisch 8“, nicht kippbar, 30 – 80 UPM |
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* Automatisch einschwenkende Blende bei Anwendung mit
oxidierenden Materialien (elektrischer Nichtleiter) |
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* Integrierte Turbomolekularpumpe, 70 l/s, luftgekühlt,
max. 5 x 10-5 mbar |
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* incl. 3 Chromtargets |
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* incl. Vakuumschlauch, Prozessgasschlauch und
Verbindungsmaterial |
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Gewicht: 36,5 kg,
Maße: 585 mm b x 470 mm t x 410 mm h (mit Standardglas) |
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Vorpumpe: |
2-stufige Drehschieberpumpe, ca. 5 m3/h, max.
1 x 10-2 mbar,
incl. Installationsmaterial für Geräteanschluss |
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Ölnebelfilter, regenerierbar |
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oder |
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Membranvorpumpe für öl-freies Vakuum, max. 4 mbar, 2.2 m3/h
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Q300TD |
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*
Allgemeine Spezifikationen wie oben aufgeführt |
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* 2 Magnetronköpfe für sequentielle Beschichtung mit 2
verschiedenen Materialien ohne Vakuumbruch |
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* Beschichtung mit Edelmetallen und oxidierenden Metallen
(siehe Targetliste) |
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* Eine Beschichtung kann bis zu 5 Sputterprofile
enthalten |
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* Automatisch einschwenkende Blende bei Anwendung mit
oxidierenden Materialien (elektrischer Nichtleiter) |
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* Rotierender Probentisch 4“, nicht kippbar, 14 – 38 UPM |
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* Integrierte Turbomolekularpumpe, 70 l/s, luftgekühlt,
max. 5 x 10-5 mbar |
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* incl. 1 Chromtarget & 1 Goldtarget |
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* incl. Vakuumschlauch, Prozessgasschlauch und
Verbindungsmaterial |
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Gewicht: 36,5 kg,
Maße: 585 mm b x 470 mm t x 410 mm h (mit Standardglas) |
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Vorpumpe: |
2-stufige Drehschieberpumpe, ca. 5 m3/h, max.
1 x 10-2 mbar,
incl. Installationsmaterial für Geräteanschluss |
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Ölnebelfilter, regenerierbar |
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oder |
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Membranvorpumpe für öl-freies Vakuum, max. 4 mbar, 2.2 m3/h
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zum Anfang
Zubehör
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10731 |
Nur für Q300RT
Pumpstutzen für Vakuumschlauchanschluss,
Winkel 90° drehbar, falls Abstellfläche nicht min. 55 cm tief ist |
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10454 |
Nur für Q300RT / Nur für Q300TT
Schichtdickenmonitor für die Steuerung der Schichtdicke |
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11577 |
Nur für Q300RT
/ Nur für Q300TT
Innenverkleidung der Vakuumkammer zur Verminderung von
Sputterschichten auf Glasrezipient |
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10422 |
Nur für Q300TT und Q300TD
Pumpstutzen für Vakuumschlauchanschluss, Winkel 90° drehbar, falls
Abstellfläche nicht min. 55 cm tief ist |
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10428 |
Nur für Q300TT und Q300TD
Penning Vakuummessröhre „full range“ für Anzeige im Hochvakuumbereich |
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10779 |
Nur für Q300TD
2 Schichtdickenmonitore für die Steuerung der Schichtdicke von
unterschiedlichen Materialien bei sequentieller Beschichtung |
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11576 |
Nur für Q300TD
Innenverkleidung der Vakuumkammer zur Verminderung von
Sputterschichten auf Glasrezipient |
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10596 |
Extra hoher Glasrezipient (214 mm h x 283 mm Ø),
empfohlen für größeren Abstand Sputterquelle / Probenoberfläche bei
hohen Proben |
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10067 |
Rotierender Probentisch,
Standard, Æ
50 mm, mit Aussparungen für 6 Standard Probenstubs |
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10357 |
Rotierender Probentisch
bis 30° kippbar,
Æ 50 mm, mit Aussparungen
für 6 Standard Probenstubs |
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10358 |
Rotierender Probentisch mit Aufnahme für 2
Glasobjektträger 75 mm x 25 mm |
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10360 |
RotaCota, planetarischer Probentisch mit variabel
einstellbarem Kippwinkel,
Æ 50 mm, mit Aussparungen
für 6 Standard Probenstubs |
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10787 |
Probentisch für Aufnahme von 4“ Wafer |
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10994 |
Probentisch für Aufnahme von 6“ Wafer, exzentrisch
rotierende Probenbühne |
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11223 |
Abschließbarer Not-Aus Schalter |
zum Anfang
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Gängige
Targetmaterialien für Q300RT:
Gold
Gold/Palladium
Platin
Platin/Palladium
Palladium
Silber
Kupfer |
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Gängige
Targetmaterialien für Q300TT
/ Q300TD:
Gold
Gold/Palladium
Platin
Platin/Palladium
Palladium
Silber
Kupfer
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Aluminium
Chrom
Cobalt
Eisen
Indiumzinnoxid (In2O3)0.9 · (SnO2)0.1
Iridium
Kupfer
Wolfram
Kohlenstoff
Magnesium
Molybdän
Nickel
Tantal
Titan
Zinn |
zum Anfang
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