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SC7680, SC5100, SC5000
Sputter Coater für
die Hochauflösung (>100.000x)
und Zubehör incl. Magnetron Ringtarget , Automatik
Beschichtung
auf Glas |
Gerade heutzutage, wo man nicht nur mit
Feldemissions-Elektronenmikroskopen sehr stark vergrößern kann,
ist eine gute Präparation nicht zu unterschätzen. Bei
Elektronenmikroskopen mit einer Auflösung von 20 nm brauchte man sich
um eine relativ grobkörnige und dicke Beschichtung keine Gedanken zu
machen. Heute jedoch erreicht man ohne großen Aufwand 3-7 nm und ist
somit auf eine optimale Probenbeschichtung angewiesen. |
Unabhängige Analyse der SC7640 Beschichtungsqualität
von nanoAnalytics |
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Die KX Sputter Coater-Serie wurde für die
unterschiedlichsten Probengrößen und Anwendungen entwickelt. Einige
Geräte verfügen über über eine Turbomolekularpumpe, um vor dem
Sputterprozess ein möglichst sauerstofffreies Vakuum zu erzeugen.
Die Chrom-Sputter Coater verfügen über einen sehr starken und
aufwändigen Magnetronkopf für die Beschichtung mit einer unvergleichbar großen Auswahl an Targetmaterialien. |
Siehe
für allgemeine Beschreibung auch www.sputter-coater.com und www.sputter-coater.de
Q150T wird ab
sofort die
Geräte K575X Sputter Coater (nicht K575XD)
und K950X Aufdampfanlage ablösen. |
Ab 2010 bietet Quorum Technologies ein neues
Gerät für die Hochauflösung an.
Es handelt sich dabei um die Gerätebezeichnung Q150T.
Das Gerät verfügt über eine Turbomolekularpumpe mit Membranvorpumpe und
ist in 3 Ausbaustufen erhältlich:
Q150T S
Sputter Coater für die Hochauflösung mit großer Auswahl an Targetmaterialien
Q150T E
Aufdampfanlage für Kohlestab, Kohlefaden und Metall
Q150T ES
Kombination Sputter Coater und Aufdampfanlage
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SC7620 Sputter Coater manuell
SC7640 Sputter Coater Automatik
Zubehör
K500X Sputter Coater
Automatik
K550X Sputter Coater
Automatik
K650X Sputter
Coater, Automatik, großer Rezipient, 3 Targets
K575X/D Chrom-Sputter
Coater,
Automatik/manuell
K675X/D Chrom-Sputter
Coater, Automatik/manuell für 8" Wafer |
Ý zum
Anfang
The EMITECH Range Sputter Coater SC7600-Serie
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SC7620 Mini Sputter
Coater (nur für Edelemetalle)
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Rezipient, Ø 10 cm / Höhe 13,5
cm
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Magnetron-Kopf für die "kalte"
Probenbeschichtung, Scheibentarget
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Sputterstrom über Argon-Nadelventil
einstellbar
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höhenverstellbarer Probentisch für optimale
Beschichtung
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3-Minuten Zeitschaltuhr, 15 Sekundenschritte
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inkl. Gold-Palladium-Target, 1 m Vakuumschlauch, Schlauchflansch
& Schlauchschelle
Optionen: Kohlefadenbeschichtung
SC7620 & SC7625-F Kohlefadenbeschichter-Zusatz
Ý zum
Anfang
Der Sputter Coater SC7640 von Quorum Technologies Ltd. wurde speziell
mit dem Ziel einer möglichst dünnen und feinkörnigen
Metallbeschichtung für die Hochauflösung entwickelt. Der Magnetron-Kopf
wurde vollkommen neu überarbeitet und sowohl in Sachen Targetverschleiss als auch für dünne zusammenhängende
Schichten und kleine Korngröße optimiert. Als einziger Sputter Coater
auf dem Markt verfügt er über ein Ringtarget, das wesentlich zu
hochauflösenden Schichten beiträgt. Mit der Automatik lassen
sich knifflige Präparatbeschichtungen reproduzieren und der als Option
erhältliche Schichtdickenmonitor erlaubt eine Vorbestimmung der
Schichtstärke. Weitere Optionen wie Kohlebeschichtung mit Stab oder
Faden sind für die unterschiedlichsten Anwendungen
verfügbar.
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SC7640 Hochauflösungs-Sputter Coater,
vollautomatisch/manuell (nur
für Edelemetalle)
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"Cool" Sputter Coater für extra kleine
Korngröße
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neuer Magnetron-Kopf mit Ringtarget für besonders
gleichmäßige Beschichtung
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einstellbarer Sputterstrom für Schichtdicken von 3-5 nm, unabhängig
von der Prozessgasmenge
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feindosierbares Nadelventil für
Argonzufuhr
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vollautomatischer, reproduzierbarer
Beschichtungsablauf - bei
manuellem Betrieb werden Abpumpen,
Spülen und Prozessgaszufuhr automatisch
durchgeführt
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großer Rezipient, Durchmesser 16,5 cm / Höhe 12,8
cm
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höhenverstellbarer Probentisch für optimale
Beschichtung
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mit Pt oder Au/Pd-Target hervorragend geeignet für FEM
und Hochauflösung
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inkl. Gold-Palladium-Target, 1 m Vakuumschlauch, Schlauchflansch
& Schlauchschelle
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Optionen: WS7608 wassergekühlter Probentisch, RC7606
planetarischer Probentisch,
CA7625 Kohlefaden-/Kohlestabbeschichter,
Schichtdickenmonitor (FTM)
Ý zum
Anfang
FT7607 Probenbühne mit Kristallhalter für
Schichtdickenmonitor
SC7640-CF/CR Stromversorgung für Kohlefaden oder Kohlestab
Ý zum
Anfang
SC7640-CR Kopfeinheit mit Halterung für
Kohlestäbe
SC7640-CF Kopfeinheit mit Halterung für
Kohlefaden
RC7606 Planetarische Probenbühne (Rota
Cota
Stage)
! nicht einsetzbar in Verbindung
mit FT7607 Kristallhalter für
Schichtdickenmonitor
Ý zum
Anfang
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 Hochwertige
Magnetron Sputter Targets sind in verschiedenen Materialien erhältlich.
Gängig
sind Gold (Au), Gold/Palladium (Au/Pd 80/20), Platin (Pt) und Silber (Ag).
Das
Gerät SC7620 benötigt Scheibentargets, das Gerät SC7640 für die
Hochauflösung
benötigt Ringtargets.
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A0830A Hochreine Kohlestäbe, stufige Spitzen, Æ
6.2 mm, 100mm lang,
10 Stück
A0832A Hochreine Kohlestäbe, stufige Spitzen, Æ
6.2 mm, 50mm lang, 10
Stück
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Scheibentarget Æ
57mm
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Ringtarget Æ
außen 82mm, innen 60mm
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502-314-A Goldtarget Au
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510-314-A Goldtarget Au
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502-314-B Gold-Palladiumtarget
Au/Pd
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510-314-B Gold-Palladiumtarget
Au/Pd
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502-314-C Platintarget Pt
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510-314-C Platintarget Pt
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502-314-E
Silbertarget Ag
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510-314-E
Silbertarget Ag
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Ý zum
Anfang
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510-314-G Palladiumtarget
Pd
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C5421 Kohleschnur, 1m, 1.5
g/m
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C5421-10 Kohleschnur, 10m,
1.5 g/m
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C5421-100 Kohleschnur,
100m, 1.5 g/m
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A0819 Kohleschnur
spektralrein, 1m
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Scheibentarget Æ
57mm
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Ringtarget Æ
außen 82mm, innen 60mm
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502-314-A Goldtarget Au
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510-314-A Goldtarget Au
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502-314-B Gold-Palladiumtarget
Au/Pd
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510-314-B Gold-Palladiumtarget
Au/Pd
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502-314-C Platintarget Pt
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510-314-C Platintarget Pt
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502-314-E
Silbertarget Ag
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510-314-E
Silbertarget Ag
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Ý zum
Anfang
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510-314-G Palladiumtarget
Pd
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EMITECH Sputter Coater KX
Range
K500X & K550X
Sputter Coater manuell/Automatik
K650X & K650XT Sputter
Coater, Automatik, 3 Targets
K575X
Chrom-Sputter
Coater, Automatik/manuellK575XD
Sequentieller Chrom-Sputter
Coater, Automatik/manuell
K675X
Chrom-Sputter
Coater, Automatik/manuell für 8" Wafer
K675XD
Sequentieller hrom-Sputter
Coater, Automatik/manuell für 6" Wafer
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- K500X Sputter Coater, Automatik (nur
für Edelemetalle)
- Magnetronkopf mit
Scheibentarget Gold, Gold/Palladium oder Platin für
gleichmäßige
Beschichtung ohne thermische Probenbelastung
- geringe Spannung 100 – 150 V für Schichtdicken von ca. 10
- 30 nm
(Korngröße < 8 nm)
- Voreinstellung von Prozessgasmenge, Sputterstrom und Zeit
- großer Rezipient, Durchmesser 165 mm / Höhe 125 mm
- höhenverstellbarer Probentisch für optimale Beschichtung, Æ
60 mm
- einstellbare Sputterzeit 0.1 – 4 Minuten
- LCD-Anzeige für Prozessparameter
- Betrieb mit Pt- oder Au-Target möglich
- incl. Gold-Target 0.1 mm dick x
60mm Æ,
Vakuumschlauch
Optionen:
SC7640-CF Zusatz Kohlefadenbeschichter,
SC7640-CR Zusatz Kohlestabbeschichter,
K150M/K150X Schichtdickenmonitor
Gewicht 18 kg, 450 mm b x 350
mm t x 175 mm h
- K550X Sputter Coater,
Automatik, rotierende Probenbühne
(nur für Edelemetalle)
-
gleiche technische Daten wie K500X zzgl.
-
Vollautomatischer Prozessablauf
-
Voreinstellung aller Prozessparameter
-
rotierende Probenbühne mit 30° Neigungswinkel
Optionen:
SC7640-CF Zusatz Kohlefadenbeschichter,
SC7640-CR Zusatz Kohlestabbeschichter,
K150M/K150X Schichtdickenmonitor
Ý zum
Anfang
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- K650X
Sputter Coater, Automatik, 3 Targets
(nur für Edelemetalle)
-
Magnetronkopf mit 3 Scheibentargets (60 mm Æ),
Gold, Gold/Palladium
oder Platin für gleichmäßige Beschichtung von Proben bis
205 mm Æ
/ 30 mm h
- Vollautomatischer
Prozessablauf
- Voreinstellung
aller Prozessparameter
- Sehr
großer Rezipient, Æ
225 mm / Höhe 125 mm
- rotierende
Probenbühne Æ
155 mm (Beschichtung bis 205 mm)
Optionen: SC7640-CF Zusatz Kohlefadenbeschichter,
SC7680-CR Kohlestabbeschichter,
K150M/K150X Schichtdickenmonitor
Gewicht 24 kg, 450 mm b x
350 mm t x 175 mm h
- K650XT
Sputter Coater wie K650X aber mit Turbomolekularpumpe
(nur für Edelemetalle)
- Turbomolekularpumpe,
60l/sec, automatischer Pumpzyklus
Ý zum
Anfang
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- K575X
Chrom-Sputter Coater, Automatik/manuell
- „Cr“ Sputter Coater für extra kleine Korngröße für
die Hochauflösung
- peltiergekühlter
Magnetronkopf mit Scheibentarget Cr oder Edelmetall
für
besonders gleichmäßige
Beschichtung
- geringe Spannung (0.1 – 500 mA) für Schichtdicken von ca. 3 nm
(Korngröße < 0.5 nm)
- feindosierbares Nadelventil für Argonzufuhr
- vollautomatischer Beschichtungsablauf für reproduzierbare Schichten
- Turbomolekularpumpe, 60 l/s, 10-4 mbar, max. 1 x 10-6
mbar
- großer Rezipient, Durchmesser 165 mm / Höhe 125 mm
- höhenverstellbarer Probentisch für optimale Beschichtung mit
Rotation &
Kippung, Æ
60 mm
- Vakuummesseinrichtung von Atmosphäre – 10-5 mbar
- Zeitschaltuhr 0.1-4 min
- Betrieb mit Pt- oder Au-Target möglich
- incl. Chrom-Target 0.2 mm/54mm, 1 m Vakuumschlauch
Optionen: SC7640-CF Zusatz
Kohlefadenbeschichter, SC7680-CR Kohlestabbeschichter, K150M/K150X Schichtdickenmonitor
Gewicht 42
kg, 450mm W x
350mm D x 175mm H
- K575XD
Chrom-Sputter
Coater, automatisch/manuell mit 2 Magnetronköpfen
- für sequentielle Beschichtung mit 2 verschiedenen
Sputtermaterialien ohne
Vakuumbruch
- es kann wahlweise nur mit Target A oder B, mit A
& B oder mit B & A
gesputtert werden
- Target A und/oder B kann aus Edelmetall oder anderem Targetmaterial
(siehe unten) programmiert und gemischt werden
- incl. Chrom-Target
& Gold-Target
Targetmaterialien:
Sputter-Targets für K575X / K675X (benötigt jeweils 3 Targets)
/ SC3000
Scheibentarget Æ 57mm, Folie ohne Halter:
Aluminium,
Chrom,
Eisen, Gold, Gold/Palladium, Iridium, ITO Indiumzinnoxid, Kobalt,
Kohlenstoff, Kupfer, Magnesium, Molybdän, Nickel, Platin, Silber,
Tantal, Titan, Wolfram, Zinn
Ý zum
Anfang
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- K675X
Chrom-Sputter
Coater, Automatik/manuell für 8" Wafer
-
„Cr“ Sputter Coater für extra kleine Korngröße
-
3 peltiergekühlte Magnetronköpfe
mit Scheibentargets Cr (Edelmetall
möglich)
-
geringe Spannung (0.1 – 450 mA) für Schichtdicken von
ca. 3 nm
(Korngröße < 0.5 nm)
-
feindosierbares Nadelventil für Argonzufuhr
-
vollautomatischer Beschichtungsablauf für
reproduzierbare Schichten
-
Turbomolekularpumpe, 60 l/s, 10-4 mbar, max.
1 x 10-6 mbar
-
sehr großer Rezipient,
Durchmesser 300 mm / Höhe 200 mm
-
exzentrisch rotierender Probentisch mit Kippung
- Targetreinigung (Oxidschicht) gegen Blenden
-
Vakuummesseinrichtung von Atmosphäre – 10-5
mbar
-
Zeitschaltuhr 0.1-4 min
-
Abstand Probenteller / Targets 60 mm
-
Betrieb mit Pt- oder Au-Target möglich
- incl. 3 x Chrom-Target 54 mm Æ x 0.3 mm d, 1 m Vakuumschlauch
Gewicht 42 kg, 450mm b x 500mm t x 300mm h (Gesamthöhe 630mm)
Targetmaterialien:
Sputter-Targets für K575X / K675X (benötigt jeweils 3 Targets)
/ SC3000
Scheibentarget Æ 57mm, Folie ohne Halter:
Aluminium,
Chrom,
Eisen, Gold, Gold/Palladium, Iridium, ITO Indiumzinnoxid, Kobalt,
Kohlenstoff, Kupfer, Magnesium, Molybdän, Nickel, Platin, Silber,
Tantal, Titan, Wolfram, Zinn
Ý zum
Anfang
-
K675XD
Chrom-Sputter Coater, automatisch/manuell für
6“ Wafer (150 mm)
- „Cr“ Sputter Coater für extra kleine Korngröße
- 2
peltiergekühlte Magnetronköpfe mit
Scheibentargets Cr (Edelmetall
möglich). Sequentielles
Sputtern ist ohne Vakuumbruch möglich,
Targets
lassen sich einzeln ansteuern
- geringe Spannung (0.1 – 150 mA) für Schichtdicken von ca. 3
nm
(Korngröße < 0.5 nm)
- Schichtdicke ca. 15 nm/min
- feindosierbares Nadelventil für Argonzufuhr
- vollautomatischer Beschichtungsablauf für reproduzierbare
Schichten
- Turbomolekularpumpe, 60 l/s, 10-4 mbar, max. 1 x
10-6 mbar
- sehr großer Rezipient,
Durchmesser 300 mm / Höhe 200 mm
- exzentrisch rotierender Probentisch
- Vakuummesseinrichtung von Atmosphäre – 10-3
mbar
- Zeitschaltuhr 0-4 min
- Abstand Probenteller / Targets
60 mm
- Betrieb mit Pt- oder Au-Target möglich
- incl. Chrom-Target &
Gold-Target, 1 m Vakuumschlauch
Gewicht 42 kg, 450mm b x 500mm t x 300mm h (Gesamthöhe 630mm)
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Ý zum
Anfang
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Irrtümer
in technischer Beschreibung vorbehalten.
Aufdampfanlage Carbon Coater
Gefriertrockner Glow Discharge
Kritisch-Punkt-Trockner
Kryopräparationsanlage Kühltisch
REM Plasmareiniger Schichtdickenmonitor
Sputter Coater
Ý zum
Anfang
Siehe auch www.sputter-coater.com
und www.sputter-coater.de
www.criticalpointdryer.com
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(Bild)
