|
| |
|
Instrumente für die Probenpräparation
in der Elektronenmikroskopie
|
Auszeichnung:
Wiederverkäufer des Jahres 2009
|
7680, SC5100, SC5000
Sputter Coater für
elektrisch leitende Beschichtungen in
der Elektronenmikroskopie und Dünnschichttechnik
Beschichtung
auf Glas |
Gerade heutzutage, wo man nicht nur mit
Feldemissions-Elektronenmikroskopen sehr stark vergrößern kann,
ist eine gute Präparation nicht zu unterschätzen. Bei
Elektronenmikroskopen mit einer Auflösung von 20 nm brauchte man sich
um eine relativ grobkörnige und dicke Beschichtung keine Gedanken zu
machen. Heute jedoch erreicht man ohne großen Aufwand 3-7 nm und ist
somit auf eine optimale Probenbeschichtung angewiesen. |
Unabhängige Analyse der SC7640 Beschichtungsqualität
von nanoAnalytics |
|
|
|
|
Die Q150 Sputter Coater-Serie wurde für die
unterschiedlichsten Probengrößen und Anwendungen entwickelt. Die T-Serie
verfügt über über eine Turbomolekularpumpe, um vor dem
Sputterprozess ein möglichst sauerstofffreies Vakuum für oxidierende
Beschichtungsmaterialien (Targets) zu erzeugen. Zudem hat der Sputter
Coater der T-Serie einen sehr starken und
aufwändigen Magnetronkopf mit einer unvergleichbar großen Auswahl an Targets
für die hochauflösende Beschichtung mit oxidierenden Materialien.
|
Es handelt sich dabei um die Gerätebezeichnung oder .
R
bezeichnet die Geräte mit einer normalen 2-stufigen Drehschieberpumpe (Roughing
Pump).
T steht für Turbomolekularpumpe, die zusammen mit dem Prozessgas
Argon ein weitgehend sauerstofffreies Vakuum erzeugt. Eine Oxidation des
Targetmaterials während der Beschichtung wird dadurch vermieden.
|
Vorvakuum:
SC7620 Sputter Coater manuell
Q150R
S Sputter Coater Automatik
K650X Sputter
Coater, Automatik, großer Rezipient, 3 Targets
Hochvakuum:
Q150T S
Chrom-Sputter
Coater,
Automatik
K575XD Chrom-Sputter
Coater,
Automatik mit 2 Magnetronköpfen
K675X/D Chrom-Sputter
Coater, Automatik mit 3/2 Magnetronköpfen für 8" Wafer |
Ý zum
Anfang
The EMITECH Range Sputter Coater SC7600-Serie
-
SC7620 Mini Sputter
Coater (nur für Edelmetalle)
-
Rezipient, Ø 10 cm / Höhe 13,5
cm
-
Magnetron-Kopf für die "kalte"
Probenbeschichtung, Scheibentarget
-
Sputterstrom über Argon-Nadelventil
einstellbar
-
höhenverstellbarer Probentisch für optimale
Beschichtung
-
3-Minuten Zeitschaltuhr, 15 Sekundenschritte
- incl. Gold-Palladium-Target, 1 m Vakuumschlauch, Schlauchflansch
& Schlauchschelle
Optionen: Kohlefadenbeschichtung
SC7620 & SC7625-F Kohlefadenbeschichter-Zusatz
SC7620F Kopfeinheit mit Halterung für
Kohlefaden
-
|
Scheibentarget Æ
57mm
|
|
502-314-A Goldtarget Au
|
|
502-314-B Gold-Palladiumtarget
Au/Pd
|
|
502-314-C Platintarget Pt
|
|
502-314-E
Silbertarget Ag
|
|
Ý zum
Anfang
|
|
C5421 Kohleschnur, 1m, 1.5
g/m
|
|
C5421-10 Kohleschnur, 10m,
1.5 g/m
|
|
C5421-100 Kohleschnur,
100m, 1.5 g/m
|
|
A0819 Kohleschnur
spektralrein, 1m
|
EMITECH Sputter Coater KX
Range
K650X & K650XT Sputter
Coater, Automatik, 3 Targets
K575XD
Sequentieller Chrom-Sputter
Coater, Automatik/manuell
K675X
Chrom-Sputter
Coater, Automatik/manuell für 8" Wafer
K675XD Sequentieller
C
 |
- K650X
Sputter Coater, Automatik, 3 Targets
(nur für Edelmetalle)
-
Magnetronkopf mit 3 Scheibentargets (60 mm Æ),
Gold, Gold/Palladium
oder Platin für gleichmäßige Beschichtung von Proben bis
205 mm Æ
/ 30 mm h
- Vollautomatischer
Prozessablauf
- Voreinstellung
aller Prozessparameter
- Sehr
großer Rezipient, Æ
225 mm / Höhe 125 mm
- rotierende
Probenbühne Æ
155 mm (Beschichtung bis 205 mm)
Optionen: SC7640-CF Zusatz Kohlefadenbeschichter,
SC7680-CR Kohlestabbeschichter,
K150M/K150X Schichtdickenmonitor
Gewicht 24 kg, 450 mm b x
350 mm t x 175 mm h
- K650XT
Sputter Coater wie K650X aber mit Turbomolekularpumpe
(nur für Edelmetalle)
- Turbomolekularpumpe,
60l/sec, automatischer Pumpzyklus
Ý zum
Anfang
|
|
- K575XD
Chrom-Sputter
Coater, automatisch/manuell mit 2 Magnetronköpfen
- für sequentielle Beschichtung mit 2 verschiedenen
Sputtermaterialien ohne
Vakuumbruch
- es kann wahlweise nur mit Target A oder B, mit A
& B oder mit B & A
gesputtert werden
- Target A und/oder B kann aus Edelmetall oder anderem Targetmaterial
(siehe unten) programmiert und gemischt werden
- „Cr“ Sputter Coater für extra kleine Korngröße für
die Hochauflösung
- peltiergekühlter
Magnetronkopf mit Scheibentarget Cr oder Edelmetall
für
besonders gleichmäßige
Beschichtung
- geringe Spannung (0.1 – 500 mA) für Schichtdicken von ca. 3 nm
(Korngröße < 0.5 nm)
- feindosierbares Nadelventil für Argonzufuhr
- vollautomatischer Beschichtungsablauf für reproduzierbare Schichten
- Turbomolekularpumpe, 60 l/s, 10-4 mbar, max. 1 x 10-6
mbar
- großer Rezipient, Durchmesser 165 mm / Höhe 125 mm
- Probentisch mit
Rotation, Æ
60 mm
- Vakuummesseinrichtung von Atmosphäre – 10-5 mbar
- Zeitschaltuhr 0.1-4 min
- Betrieb mit Pt- oder Au-Target möglich
- incl. Chrom-Target
& Gold-Target
Targetmaterialien:
Sputter-Targets für K575XD / K675X (benötigt jeweils 3 Targets)
/ SC3000
Scheibentarget Æ 57mm, Folie ohne Halter:
Edelmetalle, Aluminium,
Chrom,
Eisen, Iridium, ITO Indiumzinnoxid, Kobalt,
Kohlenstoff, Kupfer, Magnesium, Molybdän, Nickel, Platin, Silber,
Tantal, Titan, Wolfram, Zinn
Ý zum
Anfang
|
|
|
- K675X
Chrom-Sputter
Coater, Automatik/manuell für 8" Wafer
-
„Cr“ Sputter Coater für extra kleine Korngröße
-
3 peltiergekühlte Magnetronköpfe
mit Scheibentargets Cr (Edelmetall
möglich)
-
geringe Spannung (0.1 – 450 mA) für Schichtdicken von
ca. 3 nm
(Korngröße < 0.5 nm)
-
feindosierbares Nadelventil für Argonzufuhr
-
vollautomatischer Beschichtungsablauf für
reproduzierbare Schichten
-
Turbomolekularpumpe, 60 l/s, 10-4 mbar, max.
1 x 10-6 mbar
-
sehr großer Rezipient,
Durchmesser 300 mm / Höhe 200 mm
-
exzentrisch rotierender Probentisch mit Kippung
- Targetreinigung (Oxidschicht) gegen Blenden
-
Vakuummesseinrichtung von Atmosphäre – 10-5
mbar
-
Zeitschaltuhr 0.1-4 min
-
Abstand Probenteller / Targets 60 mm
-
Betrieb mit Pt- oder Au-Target möglich
- incl. 3 x Chrom-Target 54 mm Æ x 0.3 mm d, 1 m Vakuumschlauch
Gewicht 42 kg, 450mm b x 500mm t x 300mm h (Gesamthöhe 630mm)
Targetmaterialien:
Sputter-Targets für K575XD / K675XD (benötigt jeweils 3 Targets)
Scheibentarget Æ 57mm, Folie ohne Halter:
Edelmetalle, Aluminium,
Chrom,
Eisen, Iridium, ITO Indiumzinnoxid, Kobalt,
Kohlenstoff, Kupfer, Magnesium, Molybdän, Nickel, Platin, Silber,
Tantal, Titan, Wolfram, Zinn
Ý zum
Anfang
-
K675XD
Chrom-Sputter Coater, automatisch/manuell für
6“ Wafer (150 mm)
- „Cr“ Sputter Coater für extra kleine Korngröße
- 2
peltiergekühlte Magnetronköpfe mit
Scheibentargets Cr (Edelmetall
möglich). Sequentielles
Sputtern ist ohne Vakuumbruch möglich,
Targets
lassen sich einzeln ansteuern
- geringe Spannung (0.1 – 150 mA) für Schichtdicken von ca. 3
nm
(Korngröße < 0.5 nm)
- Schichtdicke ca. 15 nm/min
- feindosierbares Nadelventil für Argonzufuhr
- vollautomatischer Beschichtungsablauf für reproduzierbare
Schichten
- Turbomolekularpumpe, 60 l/s, 10-4 mbar, max. 1 x
10-6 mbar
- sehr großer Rezipient,
Durchmesser 300 mm / Höhe 200 mm
- exzentrisch rotierender Probentisch
- Vakuummesseinrichtung von Atmosphäre – 10-3
mbar
- Zeitschaltuhr 0-4 min
- Abstand Probenteller / Targets
60 mm
- Betrieb mit Pt- oder Au-Target möglich
- incl. Chrom-Target &
Gold-Target, 1 m Vakuumschlauch
Gewicht 42 kg, 450mm b x 500mm t x 300mm h (Gesamthöhe 630mm)
|
|
Ý zum
Anfang
|
Irrtümer
in technischer Beschreibung vorbehalten.
Aufdampfanlage Carbon Coater
Gefriertrockner Glow Discharge
Kritisch-Punkt-Trockner
Kryopräparationsanlage Kühltisch
REM Plasmareiniger Schichtdickenmonitor
Sputter Coater
Ý zum
Anfang
Siehe auch www.sputter-coater.com
www.sputter-coater.de
|
(Bild)
